營收增長： 5月自結營收達0.12億元，年增22％。
稅前盈餘： 5月稅前盈餘為0.12億元，年增50％。
稅後純益： 5月稅後純益達0.08億元，年增33％，EPS達0.2元。
累計營收與盈餘： 近二月累計營收年增25％，達0.28億元，稅前盈餘0.28億元，年增27％，稅後純益0.21億元，年增40％，EPS達0.48元。
首季與前五月EPS： 首季EPS達1.03元，累計今年前五月EPS為1.51元。
主要產品與應用： 晶呈科技為國內特殊氣體供應商，主要產品包括C4F8（八氟環丁烷）和C4F6（六氟環丁烷），應用於蝕刻製程。F2N2（氟氣、氮氣混合氣體）主要用於蝕刻及擴散製程中的清洗氣體，Laser Gas（雷射氣體）則用於黃光製程。
上半年營收成長： 6月營收年增20.61％，上半年營收達4.94億元，年成長10.49％。
去光阻液生產與市場需求： 晶呈科技的去光阻液已有12種品項可量產，法人預期下半年產能可達滿載狀態，並將持續擴增產能以應對市場需求。公司去光阻液已獲得國際大廠採用。
半導體材料國產化趨勢： 隨著半導體材料供應國產化趨勢，晶呈科技C4F6產能由原先四級製造20噸擴充至二級製造100噸，並搭上先進製程國產化需求的順風車。未來產品包括AHF、BCL3、WF6、CO均針對5、4奈米以下先進製程，營運利基穩定提升。
未來展望： 晶呈科技預計下半年產能將達滿載狀態，特殊氣體產品需求逐季回溫，有助於下半年營運動能回溫。
結論
晶呈科技因特殊氣體需求增加，營收和盈餘顯著提升，特用氣體產品需求逐季回溫，加上去光阻液獲得國際大廠採用，未來產能持續擴增，隨著半導體材料供應國產化趨勢，公司未來的營運表現將更加穩定和強勁。
