特化材料大廠新應材（4749）受惠於晶圓代工龍頭先進製程需求噴發，成功卡位 2 奈米及下世代半導體材料市場，營運進入高速成長期，以下為重點摘要：

一、 先進製程核心供應：2 奈米與 1.4 奈米佈局

新應材在微影材料領域取得重大突破，多項產品已全面導入客戶量產：

  • 關鍵材料： 包含表面改質劑（Rinse）、洗邊劑（EBR）、清洗劑與底部抗反射層（BARC）等，應用範圍從 2 奈米延伸至 A14（1.4 奈米）與 A16 製程。

  • 光阻劑開發： 積極投入 DUV 光阻液，KrF 產品已獲認可，ArF 則進入驗證階段，預計投入 1 億美元搶攻 2030 年達 30 億美元規模的光阻市場。

二、 先進封裝與 CPO：新成長引擎

除了前段製程，新應材在後段封裝與新興光學領域也有顯著進展：

  • 新封裝型態： 已有產品通過客戶驗證，預計今年開始貢獻營收。

  • CPO 佈局： 針對共同封裝光學（CPO）所需的膠材及暫時保護層進行開發，已有數項產品取得進展。

三、 擴產規劃：產能翻倍因應需求

為滿足客戶強勁需求，新應材積極擴充生產基地：

  • 高雄廠： 一期產能預計今年達滿載；二期將於 2027 年上半年投產；三期則規劃支應下世代製程。

  • 龍潭新廠： 預計 2028 年初完工，將作為全新研發中心與 DUV 光阻合成工廠，厚植長線競爭力。